Eine Lösung, die neue Standards unterstützt
Der Kern der neuen PLM-Lösung bei Boon Edam besteht darin, die Inventor basierten Zeichnungen automatisch ins SAP zu übernehmen und so eine zentrale Quelle mit unternehmensweitem Zugriff – eine „Single Source of Truth“ – für lokal an den Standorten erzeugte Daten zu schaffen. Cideon implementierte hierzu SAP Engineering Control Center (SAP ECTR), die Integrationsplattform von SAP PLM für Autorenwerkzeuge, sowie die entsprechende Integration für Autodesk Inventor. Zudem bestand eine wesentliche Anforderung an die neue SAP Lösung darin, die Daten mit dem SAP Produktkonfigurator in Einklang zu bringen. Eine Herausforderung, die mittels Customizing realisiert wurde.
Auch werden zukünftig Zeichnungen und relevante Dokumente für den Einkauf nach definierten Regeln automatisch erzeugt und kontextbezogen zusammengestellt. Das reduziert Fehler, die durch händische Zusammenstellung zwangsläufig entstehen, und minimiert den Zeitaufwand an der Nahtstelle zwischen der Konstruktion und den Folgeprozessen. Schilder gibt ein Beispiel: „Die freigegebenen Daten aus der Konstruktion werden zukünftig per Knopfdruck für den geplanten Verwendungszweck zusammengestellt: Für den Versand per E-Mail und in das File-System erzeugt die Lösung quasi vollautomatisch PDFs der relevanten Arbeitspakete.“
Als dritten wesentlichen Bestandteil der Lösung versetzen die Konverter-Technologien der Cideon Conversion Engine das Unternehmen in die Lage, Inventor basierte Zeichnungen an Nicht-CAD-Arbeitsplätzen anderer Abteilungen oder unternehmensübergreifend für externe Partner zur Verfügung zu stellen. Der Vorteil dabei: Der Zugriff auf die Konstruktionsdaten erfolgt in allgemeingültigen Formaten wie dem klassischen PDF, damit die unternehmensweite Lesbarkeit ohne Abhängigkeit von Original-Applikationen sichergestellt ist. „Die Zusammenarbeit wird damit erheblich vereinfacht“, so Stürke.
Resümee und Ausblick
Ausschlaggebend für Boon Edam war letztlich, dass das Gesamtpaket mit SAP S/4HANA die nächste Evolutionsstufe von ERP-Systemen unterstützt und damit eine langfristige Perspektive bietet. Cideon konnte PLM-seitig alles aus einer Hand liefern. Seit März 2018 ist Boon Edam mit einer SAP S/4HANA Lösung live, die MCAD-basierte Zeichnungen und Daten unternehmensweit direkt integriert.
Auch der weitere Fahrplan steht: „Mit der Einbindung der MCAD-Umgebung in SAP und der Schulung der Key User ist der Großteil des Projektes bei Boon Edam erfolgreich abgeschlossen“, so Stürke und ergänzt: „Aktuell planen wir die Integration der ECAD-Arbeitsplätze, so dass der Kunde nach der Realisierung die Daten seiner kompletten Konstruktion im SAP System abbilden kann.“ Und in absehbarer Zeit die Vorteile einer integrierten Produktentwicklung vollumfänglich ausschöpfen wird. Anschließend erfolgt der Roll-out der Gesamtlösung in den Boon Edam Entwicklungsstandorten China und USA.
Das Projekt Boon Edam auf einen Blick
Herausforderung: Gewachsene, heterogene PDM-Umgebung mit Systeminseln in der Konstruktion. Lokal erzeugte M- und ECAD-Daten sollen standortübergreifend konsistent verfügbar sein.
Vorgehensweise: Implementierung einer firmenweiten PLM-Lösung für SAP S/4HANA, die M- und ECAD-Daten unternehmensweit direkt integriert.
Leistungen: Prozessberatung, Implementierung, Customizing, Schulung, Support
Lösung: SAP ECTR und Integrationen für CAD, Konvertierungslösung, die CAD-Daten als PDF verfügbar macht; Ausgabelösung zur automatisierten Zusammenstellung von CAD-Daten für den Einkauf.
Ergebnis: Standardisierung der IT-Landschaft und weltweite Datenverfügbarkeit durch eine PLM-Komplettlösung als integraler Bestandteil der SAP S/4HANA Umgebung bei Boon Edam.
Mehrwert für Boon Edam
- Durchgängiger Prozess mit SAP als zentraler Datenquelle.
- Effizientere Zusammenarbeit der weltweit verteilten Teams durch einheitliche IT.
- Reduzierung von Fehlerquellen und weniger Nacharbeit dank IT-Vernetzung.
- Kürzere Durchlaufzeiten, da die Daten dem gesamten Prozess zur Verfügung stehen.
- Investitionssicherheit, da die Lösung neueste ERP- und PLM-Technologien unterstützt.